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기존 나노입자 합성 기술은 대량생산의 어려움, 고온 반응 조건, 용매 및 전구물질 선택의 제약 등의 한계를 가지고 있습니다. 본 발명은 이러한 문제점을 해결하고자, 저온에서도 균일한 나노입자를 효율적으로 형성하고 대량생산이 가능한 혁신적인 나노입자 형성 방법을 제시합니다. 이 방법은 나노입자 전구물질과 용해도가 다른 두 종류의 용매를 혼합하고, 특정 용매를 선택적으로 제거함으로써 나노입자의 핵 생성 및 성장을 유도합니다. 이를 통해 종래 기술 대비 낮은 반응 온도, 폭넓은 재료 선택, 계면활성제 불필요 등의 장점을 제공하여, 다양한 응용 분야에 적합한 나노입자를 안정적으로 제조할 수 있습니다.
| 기술 분야 | 나노입자 합성 기술 |
| 판매 유형 | 자체 판매 |
| 판매 상태 | 판매 중 |
| 기술명 | |
| 나노입자 및 그 형성 방법 | |
| 기관명 | |
| 서울대학교산학협력단 기초과학연구원 | |
| 대표 연구자 | 공동연구자 |
| 현택환 | - |
| 출원번호 | 등록번호 |
| 1020210152408 | 1027153620000 |
| 권리구분 | 출원일 |
| 특허 | 2021.11.08 |
| 중요 키워드 | |
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