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이온빔 전류 측정 시 발생하는 이차전자 방출은 종래 파라데이컵의 측정 오류와 설치 공간 제약을 야기했습니다. 본 기술은 이러한 문제 해결을 위해 전위확장전극선이 보강된 이차전자 억제전극과 이를 활용한 짧은 파라데이컵을 제안합니다. 이온빔이 입사되는 차폐하우징 내부에 전하포집기와 이차전자 억제전극을 배치하고, 전하포집기에서 방출된 이차전자들이 되돌아가도록 억제전극에 음전압을 인가합니다. 특히 이차전자 억제전극에 복수 개의 전위확장전극선을 연결하여 전극면을 형성함으로써, 이차전자의 재포집율을 획기적으로 높였습니다. 이를 통해 기존보다 짧은 길이의 파라데이컵으로도 이온빔 전류 측정의 정확도를 높이고 오차를 최소화할 수 있습니다. 결과적으로 설치 공간이 제한적인 환경에서도 이온빔 전류 측정이 가능해져 다양한 산업 분야에서의 활용성이 크게 증대될 것으로 기대됩니다.
| 기술 분야 | 입자빔 전류 측정 |
| 판매 유형 | 자체 판매 |
| 판매 상태 | 판매 중 |
| 기술명 | |
| 전위확장전극선이 보강된 이차전자억제전극 및 이를 사용한 짧은 파라데이컵 | |
| 기관명 | |
| 기초과학연구원 | |
| 대표 연구자 | 공동연구자 |
| 우형주 | - |
| 출원번호 | 등록번호 |
| 1020150142557 | 1016919120000 |
| 권리구분 | 출원일 |
| 특허 | 2015.10.13 |
| 중요 키워드 | |
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