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기존 2차원 반도체 도핑 공정은 물질 손상을 유발하는 한계가 있었습니다. 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해, 2차원 전이금속 칼코겐화합물 막에 산소 원자를 이용한 p형 도핑 방법 및 이를 적용한 반도체 장치를 제안합니다. 레이저 조사를 통해 2차원 반도체의 전기적, 기계적, 광학적 특성 손상 없이 p형 영역을 형성하며, 이를 통해 pn접합 다이오드, 바이폴라 트랜지스터 등 차세대 고성능 2차원 반도체 소자 개발에 기여할 수 있습니다.
| 기술 분야 | 2차원 반도체 도핑 |
| 판매 유형 | 자체 판매 |
| 판매 상태 | 판매 중 |
| 기술명 | |
| 2차원 반도체, 이를 p형 도핑하는 방법, 및 이를 포함하는 2차원 반도체 장치 | |
| 기관명 | |
| 기초과학연구원 포항공과대학교 산학협력단 | |
| 대표 연구자 | 공동연구자 |
| 조문호 | - |
| 출원번호 | 등록번호 |
| 1020180109225 | 1020800830000 |
| 권리구분 | 출원일 |
| 특허 | 2018.09.12 |
| 중요 키워드 | |
원자층 반도체2차원 반도체반도체 장치PN 접합 다이오드TMD 반도체P형 도핑전자 억셉터MoTe2산소 도핑재료 손상 방지BJT 개발전이금속 칼코겐화합물레이저 도핑차세대 반도체유연 전자 소자전자회로반도체제조반도체소자물질분석반도체/디스플레이 | |
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